金融界2025年4月5日消息，国家知识产权局信息显示，东方晶源微电子科技（上海）有限公司申请一项名为“版图图形的处理方法、装置、设备、介质及产品”的专利，公开号 CN 119758661 A，申请日期为2025年2月。
专利摘要显示，本申请公开了一种版图图形的处理方法、装置、设备、介质及产品，属于图形处理技术领域，该方法包括：获取第一版图图形，第一版图图形为经过光学邻近效应修正算法处理后的图形，其中，第一版图图形的边包括多条非变量边和多条变量边，其中，每条非变量边连接在相邻两条变量边之间；对第一版图图形中的边进行合并操作，将多条非变量边转换为对应的多条新的变量边，得到第二版图图形；对第二版图图形中的至少部分边进行优化，得到第三版图图形，通过将第一版图图形中的非变量边转换为变量边，之后对包括多条新的变量边的第二版图图形进行优化，得到第三版图图形，可以提升在对第三版图图形进行真实曝光后的图形质量。
天眼查资料显示，东方晶源微电子科技（上海）有限公司，成立于2021年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本10000万人民币，实缴资本4000万人民币。通过天眼查大数据分析，东方晶源微电子科技（上海）有限公司共对外投资了1家企业，专利信息25条，此外企业还拥有行政许可1个。
本文源自金融界
