金融界2025年4月5日消息，国家知识产权局信息显示，深圳光峰科技股份有限公司申请一项名为“干涉曝光系统、方法及光栅曝光系统”的专利，公开号CN 119758672 A，申请日期为2023年9月。
专利摘要显示，本申请公开了一种干涉曝光系统、方法及光栅曝光系统，涉及光学领域，干涉曝光系统包括：相干光光源模块，用于输出第一相干光束以及第二相干光束，第一相干光束与第二相干光束的光束夹角为第一角度；光束调整模块，调整第一相干光束的光路，得到第三相干光束，以及调整第二相干光束的光路，得到第四相干光束，第三相干光束与第四相干光束的光束夹角为第二角度，所述第二角度小于所述第一角度；周期测量模块，用于检测第三相干光束以及第四相干光束所形成的干涉条纹的条纹周期；控制模块，用于根据条纹周期，确定对应的调节参数，并根据调节参数调整光束调整模块，以使第三相干光束以及第四相干光束形成的干涉条纹的条纹周期满足预设周期精度。
天眼查资料显示，深圳光峰科技股份有限公司，成立于2006年，位于深圳市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本46260.5378万人民币，实缴资本18024.6298万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳光峰科技股份有限公司共对外投资了23家企业，参与招投标项目400次，财产线索方面有商标信息392条，专利信息2236条，此外企业还拥有行政许可63个。
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